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◎ 斯迪克获得低粗糙度、低硅MLCC离型剂及MLCC离型膜专利

来源:ayx爱游戏官网登录    发布时间:2026-01-20 19:58:50  点击次数:3291

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  金融界2025年8月20日音讯,国家知识产权局信息数据显现,江苏斯迪克新材料科技股份有限公司、东南大学、南京工程学院获得一项名为“低粗糙度、低硅MLCC离型剂及MLCC离型膜”的专利,授权公告号CN117247723B,请求日期为2023年09月。

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